PVD V201-8硬質涂層設備主要技術參數與配置:
1、真空室容積:φ1000*1200mm;
2、有效鍍膜區:φ700*850mm;
3、可移出式轉架:無需定位,可任意位置移出,傳動可靠(專利技術);
4、陰極電?。害?60mm雙驅動動態磁控陰極電弧*8;
5、IET離子刻蝕源。
技術特點:
該系列采用動態雙驅動磁控陰極電弧技術,離化率高??芍苽銽iN、CrN、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlCrSiN等單層或多層膜系。高效的涂層前離子刻蝕技術,保證了涂層的結合力及性能。該系列設備在鍍膜過程中無需打底層(過渡層),直接成膜,沉積效率高。
遼寧省沈陽市沈北新區七星大街63-71號
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